일반적으로 반도체는 각종 장치가 필요한데 그 중에서도 클린룸(Clean-Room)안에서 배열되는 제조과정을 거친다. 따라서 최첨단 제조라인은 자동반송, 자동제어 시스템이 필수이고 수작업은 그다지 많지 않은 편이다.
하지만 아무리 제조공정이 자동화가 되었다고 해도 미세입자를 원천적으로 차단하지 않으면 반도체와 디스플레이 품질에 심각한 영향을 미치게 된다. 먼지와도 같은 조그마한 입자가 제품에 미치는 영향은 지대하기 때문이다. 반도체 소자의 집적도가 향상됨에 따라 파티클, 금속 이온뿐만 아니라 케미컬 오염이 전기적 특성이나 수율에 큰 영향을 준다는 발표도 있다.
이렇듯 파티클을 제거하기 위해 외기로부터의 산, 알칼리 수용성 가스는 에어 와셔에 의해 제거되고 클린 룸 내의 순환공기에 포함되는 산, 염기, 유기물에 관해서는 물리화학흡착에 의해 제거되는 방법이 주류를 이뤄왔다.
김홍덕 아이티컨퍼런스 대표는 "제품 양산시 파티클을 검출하고 이를 확인하는 공정의 중요성이 커짐에 따라 파티클 검출을 위한 소프트웨어와 검사 장비의 고도화가 필요할 뿐 아니라 공급도 점차 확산되고 있다"며 "특히 정밀도를 요하는 플렉시블 디스플레이의 양산화가 이루어지는 만큼 이들 장비의 중요도가 비약적으로 올라갈 전망"이라고 밝혔다.
한편 이번 세미나에서는 ▲HCT 정혁 박사의 클린룸에서의 반도체 파티클 매니지먼트 ▲두텍 전용운 기술차장의 파티클 센서를 이용한 손쉬운 측정 기술 ▲델타이에스 원영수 대표의 반도체 -LCD 클린룸 내 기류 및 이물 시뮬레이션을 통한 수율 향상 확보 방안 순으로 발표가 진행된다.
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