베프스, 초음파지문센서 공정기술 단순화 특허 취득
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베프스, 초음파지문센서 공정기술 단순화 특허 취득
  • 이승윤 기자
  • 승인 2018.02.12 15:02
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초음파 지문센서 구동 위한 필수 공정인 전극 형성 단순화

[CCTV뉴스=이승윤 기자] 캠시스의 생체인식 보안사업 자회사인 베프스가 초음파지문센서 구동을 위한 필수 공정인 전극형성 관련 특허기술 2건을 취득함으로써 기술사업화 역량을 강화했다고 12일 밝혔다.

 

기존에는 센서 양면에 각각의 전극을 형성시키는 방식이었으나, 이번에 베프스가 취득한 특허 기술은 전극을 같은 면에 노출시킴으로써 단 한번의 공정으로 전극을 형성시킬 수 있어 공정을 단순화 할 수 있다. 이에 따라, 해당 공정의 투입시간이 단축돼 생산성을 극대화할 수 있다.

캠시스 박영태 대표는 “이번 특허 취득과 같이 초음파지문센서 관련 핵심기술에 대해 지속적으로 기술권리를 확보하여 베프스의 기술사업화 역량을 강화해 나갈 계획”이라고 전했다.

초음파 지문센서는 유리를 통과하는 초음파의 특성상 '풀스크린' 형태의 모바일 디스플레이 안쪽에 센서를 넣을 수 있으며, 지문의 외형뿐만 아니라 지문의 내피, 깊이, 땀구멍, 혈류 움직임까지 파악해 모조지문에 뚫릴 위험성이 없다는 장점이 있다.



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