특허청은 CMP 슬러리 관련 특허출원이 2009년 87건에서 2018년 131건으로 연평균 4.7% 증가했다고 28일 밝혔다.
이 중 내국인의 출원 증가율은 6.1%로 외국인의 출원 증가율(3.6%)을 상회했고, 내국인의 출원 점유율은 2009년 39.1%에서 2018년에는 44.3%로 5.2% 만큼 증가했다.
이는 국내 시장 점유율이 높은 글로벌 선도 기업들이 특허분쟁 등의 사유로 특허출원에 주춤한 사이, 국내기업들이 CMP 슬러리 국산화 비중 확대를 위해 꾸준히 노력한 결과로 보인다.
반도체 소자는 다수의 얇은 막이 적층되어 있어 정밀도를 높이기 위해서는 막이 형성될 때마다 연마제와 패드를 이용하여 거친 면을 평탄화하는 공정이 필요한데, 이를 CMP 공정이라 하고 이 때 사용되는 연마제가 바로 CMP 슬러리다.
최근 10년간 CMP 슬러리 분야 다출원인 중 1위는 케이씨텍이 차지했고 글로벌 기업인 후지미, 히타치, 캐보트가 뒤를 이었으며 삼성, 솔브레인, LG가 10위권 안에 포함됐다.
특히 국내 중견기업인 케이씨텍과 솔브레인이 활발한 특허출원으로 CMP 슬러리 분야에서 내국인 특허출원 증가를 견인하고 있는 점은 눈여겨볼 만하다.
세부 기술별로 살펴보면 실리콘 절연막 슬러리 관련 출원이 가장 많았다. 이어 구리, 텅스텐 등 금속막 슬러리 관련 출원, 연마입자 관련 출원, 유기막, 상변화막 등 특수막 슬러리 관련 출원 순이었다.
출원인 유형별로 살펴보면 외국기업이 61.2%, 국내기업이 37.5%로 국내외 기업들이 특허출원을 주도했고, 기타 국내대학은 1.0%, 국내연구소는 0.2%, 외국대학은 0.1%로 저조했다.
특허청 유기화학심사과 유밀 심사관은 “우리 기업의 적극적인 특허출원으로 CMP 슬러리 국산화 확대가 기대된다”라며 “반도체의 미세화, 고집적화는 계속 진행되고 있어 이러한 요구에 부합하는 CMP 슬러리에 대한 기술개발은 여전히 필요할 것”이라고 말했다.
