특허청, 한·중·일 상표·디자인 공개토론회 개최
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특허청, 한·중·일 상표·디자인 공개토론회 개최
  • 이지안 기자
  • 승인 2021.06.14 13:29
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특허청은 오는 30일 2021년 한·중·일 상표·디자인 포럼을 온라인으로 개최한다고 14일 밝혔다. 

그동안 별도로 운영되던 한·중·일 상표전문가회의와 디자인포럼을 처음으로 통합 개최함으로써 동북아를 대표하는 3국의 상표·디자인 정책의 흐름을 한눈에 파악할 수 있도록 했다.

이번 포럼에서는 ‘디지털 경제하의 상표와 디자인 보호’를 주제로 디지털 경제를 대비하는 각국의 상표·디자인 제도 변화와 운영전략에 대해 온라인 포럼을 진행하며, 실시간 질의·응답시간을 통해 300명의 한·중·일 사용자들과 각 특허청이 직접 소통하는 기회도 갖는다. 

또 싱가포르 지식재산청의 샤먀인 우(Sharmaine Wu) 국장과 국제상표협회(INTA) 조윤경 변리사도 초청해 아시아 지식재산 시장의 전략변화에 대해서도 알아본다.

포럼은 화상회의 플랫폼을 통해 진행될 예정으로 참석을 원하는 사용자는 특허청 블로그 또는 네이버폼 링크를 통해 23일까지 신청 할 수 있으며 한국어, 중국어, 일본어가 동시통역으로 제공된다.


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