KLA-텐코(Tencor)가 ‘아처(Archer) 500LCM’과 ‘스펙트라필름(SpectraFilm) LD10’이라는 첨단 계측 시스템 2종을 출시했다.
이들 제품은 16nm 이하급 IC의 개발과 생산을 지원한다. 아처 500LCM 오버레이 계측 시스템은 생산 과정의 전 단계에 걸쳐 정확한 오버레이 오류 피드백을 제공함으로써 칩메이커가 다중 패터닝, 스페이서 피치 스플리팅 등의 혁신적인 패터닝 기법을 적용할 때 발생하는 오버레이 문제를 해결하는 데 도움을 준다.
또 스펙트라필름 LD10 필름 계측 시스템은 높은 신뢰성과 정밀한 필름 두께 및 스트레스 계측을 통해 핀펫(FinFET), 3D 낸드(NAND) 등 다양한 첨단 디바이스의 제조에 사용되는 필름 및 필름 스택의 검증과 모니터링을 지원한다.
이들 신제품은 KLA-텐코의 고유한 5D 패터닝 제어 솔루션을 구성하는 핵심 제품이다. 5D 패터닝 제어 솔루션은 전체 공정을 특성화하고 모니터링해 최적의 패터닝 결과를 이끌어내는 솔루션이다.
아흐마드 칸 KLA-텐코 파라메트릭 솔루션즈그룹(Parametric Solutions Group) 부사장은 “비파괴 광학 계측 업계를 대표하는 업체로서 우리는 고객과의 긴밀한 협력을 통해 패턴 오버레이, 임계 치수, 필름 품질을 최적하는 데 있어서 나타나는 문제를 파악하고 있다”며 “고객들은 파운드리, 논리 소자, 메모리 등 다양한 분야에 걸쳐 생산 공정에 적용 가능하고 복잡한 공정 문제를 분석하는 데 필요한 데이터를 생성할 수 있는 계측 시스템을 필요로 하고 당사의 새로운 아처 500LCM 및 스펙트라필름 LD10 플랫폼과 같은 다기능 계측 시스템은 다양한 응용 분야에 걸쳐 계측의 유연성을 높이는 다양한 혁신 기능을 구현하기에 고객이 현재 노드 수율을 높이고 다음 노드 기술을 연구하는 데 도움을 준다”고 말했다.
아처 500LCM 오버레이 계측 시스템은 이미징 기술과 고유한 레이저 기반 산란 측정법 계측 기술을 모두 활용해 다양한 계측 옵션을 제공하는 동시에 인-다이, 스몰 피치 또는 멀티레이어 타깃과 같은 오버레이 계측 타깃 디자인을 폭넓게 지원한다.
이러한 유연성 덕분에 정확한 오버레이 오류 데이터를 경제적으로 생성할 수 있으며 생성된 데이터는 스캐너 수정이나 인라인 익스커션 식별에 활용할 수 있다. 따라서 엔지니어가 엄격한 패터닝 요구 사항을 맞추기 위해 웨이퍼를 재작업 할지 아니면 공정을 조정할지를 결정하는 데 도움이 된다.
다양한 아처 500LCM 시스템은 이미 전세계의 여러 파운드리, 논리 소자 및 메모리 제조사에서 첨단 제품 개발과 대량 생산을 위한 오버레이 성능을 독립적으로 평가하는 데 활용되고 있다.
스펙트라필름 LD10은 레이저 작동식 플라즈마 광원을 채택하여, 신뢰성과 정밀도가 높은 필름 계측을 지원한다. 이러한 고정밀 필름 계측 기능은 핀펫과 같은 복잡한 장치 구조를 제작하는 데 사용되는 박막 멀티레이어 필름 스택을 비롯해 다양한 필름 레이어에 활용할 수 있다.
또한 새로운 적외선 방식의 서브시스템을 사용하면 3D 낸드 플래시 장치에 사용되는 두꺼운 필름이나 멀티레이어 필름 스택의 특성화가 가능하다. 스펙트라필름 LD10은 이전 세대 아레리스(Aleris) 플랫폼보다 획기적으로 향상된 처리 속도로 높은 생산성을 유지하면서 멀티 패턴 기법 및 기타 첨단 제조 기법과 관련해 추가로 늘어난 필름 레이어를 검증하고 모니터링한다.
아처 500LCM 시스템과 스펙트라필름 LD10 시스템은 스펙트라쉐이프(SpectraShape) 9000 임계 치수 및 디바이스 3D 구조 계측 플랫폼, K-T 애널라이저(Analyzer) 첨단 데이터 분석 시스템 등 다양한 공정 제어 시스템과 함께 KLA-텐코의 포괄적인 5D 패터닝 제어 솔루션을 구성한다.
첨단 IT 제조 환경의 높은 성능 및 생산성 요구 사항을 지속적으로 지원하기 위해 KLA-텐코는 포괄적인 글로벌 서비스망을 통해 아처 500LCM 및 스펙트라필름 LD10 시스템을 지원한다.
