MEMS, 나노 기술, 반도체 웨이퍼 본딩 및 리소그래피 장비 분야 공급 업체 EV그룹(EVG)이 현재 나노 임프린트 리소그래피 분야에서 EVG의 제품군을 활용하는 다양한 고객을 지원하기 위해 NIL 포토닉스(Photonics) 역량 센터를 설립했다고 발표했다. 이를 통해 EVG는 포토닉스 분야에서 새롭고 향상된 제품 개발 및 응용 분야의 활성화를 기대하고 있다.
나노 임프린트를 이용한 포토닉스 구조는 발광다이오드(LED)와 광전지(PV) 셀 분야의 광 추출 및 광 포획 성능을 향상시킬 수 있으며 더불어 레이저 다이오드 분야에도 응용 될 수 있다. 이러한 포토닉스 구조는 소자의 성능을 향상시킬 수도 있다.
NIL 포토닉스 역량 센터는 전담 공정팀과 초기 양산 서비스를 지원할 수 있는 최첨단 클린룸을 오스트리아의 EVG 본사뿐만 아니라 북미와 일본에 있는 자회사에도 운영하고 있다.
마커스 뷤플링거 EVG 기술 개발 및 IP 이사는 “나노 임프린트 기술은 기존의 리소그래피 설계 및 제조 시간을 대폭 단축 할 수 있고 포토닉스 구조의 모든 제품 개발이 가능하다”며 “또한 광학 리소그래피용 이빔(e-beam)장치 및 스텝퍼(Stepper) 시스템과 같은 종래의 기술에 비해 생산 비용의 절감을 구현 할 수 있다”고 말했다.
예를 들어 종래의 리소그래피 기술과 비교해 나노 임프린트 기술을 이용, 전체 웨이퍼에 진정한 삼차원 나노 범위를 갖는 서브 미크론 구조 및 20nm대의 패턴까지 구현 할 수 있으며 이는 새로운 포토닉스 응용 분야의 범위를 확장 할 수 있게 한다.
이번 NIL 포토닉스 역량 센터 설립을 통해 고객에게 가장 진보된 나노 임프린트 시스템을 제공할 수 있을 뿐 아니라 나노 임프린트 기술로 활용해 고객이 해상도와 운용비용에서의 이점을 높이고 고객의 제품 설계 및 공정 프로세스를 최적화하기 위한 최선의 방법을 결정하는 데 있어서 제품 개발 과정에서부터 밀접하게 고객과 함께 노력하고 있다.
새로운 NIL 포토닉스 역량 센터는 EVG의 15년 이상의 나노 임프린트 분야의 경험과 전세계에 가장 많은 나노 임프린트 장비를 설치한 기술을 바탕으로 설립됐다.
EVG의 나노 임프린트 장비군은 최근에 출시한 EVG7200 UV-NIL 시스템을 포함하며 이는 양산에 적합한 EVG의 차세대 스마트NIL 기술을 적용한 대면적 연성 나노 임프린트 제품이다.
EVG7200과 스마트NIL 기술은 현존하는 경쟁사 나노 임프린트에 대비해서 월등하게 짧은 공정 시간과 적은 운용비용을 장점으로 제공한다.
