SK하이닉스가 도시바와 나노임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, 이하 NIL) 기술의 공동 개발에 나선다고 밝혔다.

NIL 기술은 메모리 공정이 더욱 미세화되고 있는 가운데 미세 패턴을 구현하는데 있어 적합한 차세대 리소그래피 공정기술로 평가 받고 있으며 막대한 투자가 선행되어야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다는 장점도 갖고 있다.

업계는 공정 미세화의 한계를 극복하기 위해 EUV(Extreme Ultraviolet) 활용 등 다양한 노력을 하고 있었으며 NIL 기술도 한계 극복을 위한 방안중 하나로 개발돼 왔다.